鋅鎳合金電鍍 
一、性能特點(diǎn)
 1、鍍層鎳含量可穩(wěn)定地控制。
 2、沉積速度快。
 3、低電流密度光亮區(qū)范圍寬，可用于形狀較復(fù)雜的零部件的掛鍍，也可用于滾 鍍。
 4、鍍液具有良好的整平性能，鍍層呈銀白色高光亮。 
 5、耐蝕性較電鍍鋅高 5 倍以上。

二.工藝參數(shù)： 成分及操作條件 氯化鋅（ZnCl2） 氯化鎳（NiCl26H2O） 氯化銨（NH4Cl） 三乙醇胺（三乙醇胺含量

80–85%） 氨水（用于調(diào)節(jié) pH） 添加劑 A 添加劑 B 溫度 pH 值 陰極電流密度 DK（用于掛鍍） 鎳陽極面積/鋅陽極面

積 鋅/鎳含量比 攪拌方式 過濾 含 量 50–65 g/L 140 g/L 220–230 g/L 25 g/L 適量 50 ml/L 10 ml/L 35–38℃ 5.35–

5.60 2 2–4 A/dm 1∶2.0–2.5 0.7–0.9 陰極移動(dòng) 連續(xù)或間歇過濾

三.配制方法 
 1、先往電鍍槽加入 1/2 體積的水，加熱至 50–60℃，而后加入氯化銨，邊加入 邊攪拌以加速溶解。 待氯化銨全部溶解

后再依次加入氯化鎳、 氯化鋅、 三乙醇胺、 開缸劑（添加劑 A）及輔助光亮劑（添加劑 B）。
 2、待所有組分全部溶解后，用過濾機(jī)過濾鍍液，去除顆粒雜質(zhì)。
 3、補(bǔ)充水至規(guī)定體積。測定 pH 值并用氨水調(diào)整至 5.35–5.40。
 4、新配制的鍍液在投入生產(chǎn)之前須經(jīng)預(yù)電解去除化工原料中所含的銅、鉛、銻 等重金屬雜質(zhì)元素。預(yù)電解在 0.3–0.4

A/dm2 陰極電流密度下進(jìn)行，預(yù)電解時(shí) 間一般為幾小時(shí)至幾十個(gè)小時(shí)，直至鍍層達(dá)到銀白色為止。 
四.槽液維護(hù)：
 1、pH 值的控制 該鍍液的適宜 pH 值在 5.35–5.65 范圍內(nèi)。 PH≤5.2， 鍍層呈麻點(diǎn)狀； PH≤5.3， 鍍層光亮性差。隨

著電鍍的進(jìn)行，鍍液的 pH 值緩慢的上升，用鹽酸調(diào)整之。
 2、Zn/Ni 比的控制鍍液的鋅含量與鎳含量之比（Zn/Ni 比）不僅是決定鍍層鎳含量的主要參數(shù)， 也對鍍層外觀有顯著

的影響，必須嚴(yán)格加以控制。該鍍液的適宜 Zn/Ni 比最好控 制在 0.7–0.9 范圍內(nèi)。Zn/Ni 比過高（≥1.0），當(dāng)槽液溫度

較低（≤35℃）與 陰極電流密度較?。ā?.5 A/dm2）的情況下，鍍層呈灰色。反之，Zn/Ni 比過 低（≤0.5），鍍層的

鎳含量有可能超過 15%，對提高鍍層的耐蝕性不再有益， 而脆性增加。鍍液 Zn/Ni 比可通過化學(xué)分析或其它簡單方法予

以測定。根據(jù)測定 結(jié)果及變化趨勢及時(shí)調(diào)整鋅陽極與鎳陽極的面積比。
 3、溫度控制 本工藝的操作溫度較寬（30–40℃），除滾鍍及鍍件形狀過于復(fù)雜的場合外， 電鍍操作溫度一般選擇 35–

38℃。
 4、陰極電流密度的控制 陰極電流密度的選擇取決于鍍件形狀?？偟脑瓌t是，在保證鍍層質(zhì)量的情況 下采用較大的電流

密度，加大鍍層沉積速度，縮短電鍍時(shí)間。掛鍍一般選擇 2– 4 A/dm2，滾鍍?yōu)?1.0 A/dm2 左右。
 5、補(bǔ)缸劑（添加劑 C）的添加 添加劑 C 的消耗量為 100–120 ml/K.A.hr。添加劑 C 過量將導(dǎo)致鍍件的高電 流密度區(qū)

出現(xiàn)凹凸不平及氣流狀條紋。反之，添加劑 C 不足則鍍層光亮性不足。
 6、該鍍液的適宜氯化銨含量為 220–230 克/升，含量過低鍍層呈灰色。定期分 析并適當(dāng)補(bǔ)充。
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